OSP-C N2 고순도 99.9995% 질소 발생기 플랜트
우리는 보통 탄소를 보통 질소 (99-99.9% 순도)에 더하고 촉매제, 이산화탄소, 일산화탄소의 작용에서, 그리고 나서 높은 순도 질소를 획득하기 위한 분자체 흡착을 통하여 보통 질소 가스에서 산소와 반응합니다.
C+O2 = 이산화탄소
상술 :
- 능력 : 5-6000Nm3/hr
- O2 : < 3 ppm
- 순도 : 99.9997%
- 압력 : 4-5 바
- 이슬점 : ≤-70C
특징 :
증명된 기술
스테이블 & 신뢰할 만한 성능
수소와 산소 컨텐츠 필드에 대한 엄격한 요구사항에 적합합니다
자동 인터로킹, 다중 결함이 경보합니다
쉽게 작동하고 유지하세요
활용 범위 :
야금학 : 가열냉각 보호, 덩어리 보호, 씻고 부는 노, 기타 등등에 대해. 금속 열처리, 분말 야금, 자성체, 구리 프로세스, 금속성 메쉬, 아연 도금선, 반도체, 기타 등등과 같은 분야에 사용했습니다.
화학적이고 새로운 소재 산업 : 화학 재료 가스, 가스관 취입, 가스 교체, 가스 보안, 제품 운송, 기타 등등을 위해. 화학, 우레탄 탄성 섬유, 고무, 플라스틱, 타이어, 폴리우레탄, 생물학적 기술, 중간이, 등과 같은 분야에 사용했습니다.
전자 공업 : 캡슐화, 덩어리, 가열냉각, 탈산소화, 저장을 위해 전자 제품의. 최대 용접, 주류취식 용접, 크리스탈, 압전기, 전자적 자기, 전자적 동 테이프, 배터리, 전자적 합금 성분, 기타 등등과 같은 분야에 사용했습니다.
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