प्रेशर स्विंग सोखना (पीएसए) ऑक्सीजन जनरेटर के सिद्धांत सोखना और हैं
अवशोषण.
प्रत्येक गैस की एक विशिष्ट सोखने की दर होती है जो जिओलाइट आणविक चलनी (जेडएमएस) द्वारा सोखने पर होती है।ZMS में बड़ा सतह क्षेत्र होता है जिसमें सूक्ष्म छिद्रों और मार्गों की एक बड़ी मात्रा होती है।दबाव के बाद ZMS बिस्तर पर पहुंचाने पर नाइट्रोजन की सोखने की दर ऑक्सीजन की तुलना में अधिक होती है।जब संपीड़ित हवा ZMS में प्रवेश करती है, तो ऑक्सीजन अणु इस बड़ी सतह से गुजरने में सक्षम होते हैं, और नाइट्रोजन अणु सतह क्षेत्र में अवशोषित हो जाते हैं।
सोखना और सोखना/प्रसार पीएसए प्रणाली के सामान्य सिद्धांत हैं क्योंकि प्रत्येक गैस में एक
विशेषता सोखना दर जो आणविक छलनी द्वारा सोखने की क्षमता का एक कार्य है।सोखने की प्रक्रिया 90% से अधिक ऑक्सीजन की शुद्धता वाली गैस की एक श्रृंखला का उत्पादन कर सकती है।
चूँकि ZMS नाइट्रोजन से संतृप्त है, इसलिए इसे अगले चक्र के लिए पुनर्जीवित करने के लिए दबावमुक्त किया जाना चाहिए।CANGAS PSA N2/O2 जनरेटर में, हम ऑक्सीजन की निरंतर धारा उत्पन्न करने के लिए ZMS से भरे दो सोखने वाले जहाजों का उपयोग करते हैं।
डिप्रेसुराइजेशन के दौरान आवश्यकता से कम शुद्धता की ऑक्सीजन को पहले दूसरे बर्तन में स्थानांतरित किया जाता है, जिसे प्रेशर इक्वलाइजेशन कहा जाता है।दबाव समीकरण उच्च दक्षता और कम ऊर्जा खपत को बढ़ावा देता है।फिर सोखना और सोखना/पुनर्जनन प्रक्रियाएं दो सोखना टावरों में स्विच हो जाती हैं।
मुख्य विशेषताएं
एक।सभी प्रमुख घटक अंतरराष्ट्रीय प्रसिद्ध ब्रांडेड उत्पादों को अपनाते हैं, जैसे जर्मनी के GEMU और BURKET द्वारा उत्पादित वायवीय और विद्युत चुम्बकीय वाल्व, और सीमेंस द्वारा उत्पादित PLC।
बी।अणु छलनी का सेवा जीवन लंबा होता है, जो प्रभावी रूप से ऑक्सीजन की शुद्धता की गारंटी देता है।
सी।जर्मन कार्बो टेक द्वारा प्रदान की गई उन्नत "तूफान" प्रकार अणु चलनी लोडिंग विधि ने अणु चलनी की लोडिंग घनत्व में काफी वृद्धि की है;इस बीच, उन्नत संयुक्त अणु छलनी पिंच उपकरण प्रभावी ढंग से इसके अंतराल के बीच टकराव के कारण अणु छलनी के चूर्णीकरण को रोक सकता है, इसलिए सेवा जीवन बढ़ाया जा सकता है।
डी।सोखना टॉवर डिजाइन में एक उन्नत आंतरिक संरचना को अपनाता है, जिसमें टॉवर के नीचे स्थापित एक कमल वायु प्रवाह वितरक शामिल है, जो अणु छलनी में उच्च दबाव वायु प्रवाह दुर्घटना को प्रभावी ढंग से रोकता है, और अणु छलनी की सेवा जीवन को भी बढ़ाता है;इस बीच, यह गैस को समान रूप से फैला सकता है, जिससे अणु छलनी की सेवा दक्षता में काफी सुधार होता है और ऊर्जा की खपत कम हो जाती है।
इ।ऑक्सीजन जनरेटर एक अनुकूलित तकनीकी डिजाइन को अपनाता है, जो ऑक्सीजन की शुद्धता, प्रवाह दर और दबाव को अधिक स्थिर बनाता है।
एफ।ऑक्सीजन जनरेटर में एक दृश्य प्रक्रिया प्रदर्शन फ़ंक्शन होता है, जो स्विच वाल्व की स्थिति को दर्शाता है।
| नमूना |
क्षमता (एनएम3/घंटा) |
पवित्रता
|
आउटलेट दबाव (एमपीए) |
प्रवेश (मिमी) |
दुकान (मिमी) |
DIMENSIONS एल*डब्ल्यू*एच (मिमी) |
वज़न (किलोग्राम) |
| OSO5 | 5 |
93±3% |
0.2-0.4 एमपीए |
DN20 | डीएन10 | 1350*1200*1800 | 800 |
| OSO10 | 10 | डीएन25 | डीएन15 | 1800*1250*2200 | 1200 | ||
| ओएसओ15 | 15 | डीएन25 | डीएन15 | 2100*1450*2200 | 1500 | ||
| OSO20 | 20 | डीएन40 | डीएन25 | 2300*1550*2450 | 1800 | ||
| OSO30 | 30 | डीएन40 | डीएन25 | 2450*1650*2550 | 1950 | ||
| OSO35 | 35 | DN50 | डीएन25 | 2650*1900*2550 | 2150 | ||
| OSO40 | 40 | DN50 | डीएन25 | 2800*2200*2600 | 2200 | ||
| OSO50 | 50 | DN50 | डीएन25 | 3100*2450*2700 | 2350 | ||
| ओएसओ60 | 60 | डीएन65 | डीएन40 | 3300*2600*2900 | 2550 | ||
| OSO80 | 80 | डीएन80 | DN50 | 3500*2950*3100 | 3300 | ||
| OSO100 | 100 | डीएन80 | DN50 | 3850*3100*3300 | 4000 | ||
| OSO150 | 150 | डीएन100 | डीएन65 | 4100*3300*3450 | 5100 | ||
| OSO200 | 200 | डीएन125 | डीएन80 | 4600*3550*3500 | 6200 | ||
| ओएसओ250 | 250 | डीएन125 | डीएन80 | 5500*3900*3900 | 8500 | ||
| OSO300 | 300 | डीएन150 | डीएन100 | 5800*4200*3980 | 10500 |
डिज़ाइन संदर्भ:
संपीड़ित वायु प्रवेश दबाव 7.5 बार(जी)/108 पीएसआई(जी)
आईएसओ 8573-1:2010 के अनुसार वायु गुणवत्ता 1.4.1
ऑक्सीजन आउटलेट दबाव 2-4 बार(जी)/58पीएसआई(जी)
ISO 8573-1:2010 के अनुसार ऑक्सीजन गुणवत्ता 1.2.1।
डिज़ाइन किया गया कार्य तापमान अधिकतम 50 ℃
ऑक्सीजन आउटलेट पर ओस बिंदु - 50 ℃
टिप्पणियाँ:
ऑक्सीजन जनरेटर के निम्नलिखित अनुरोध को अनुकूलित किया जाएगा:
ऑक्सीजन आउटलेट दबाव> 4 बार (जी)/58 पीएसआई (जी)
सिलेंडर भरना 150 बार(जी)/200 बार(जी)/300 बार(जी)
ओसांक ＜ - 50 ℃
चलने योग्य/कंटेनरीकृत, प्लग एंड प्ले
साइट की स्थितियों के अनुसार अन्य विशेष आवश्यकताएँ
